Alüminium nitridi qızdırıcıları

Semikorex alüminium nitridi qızdırıcıları yüksək istilik keçiriciliyi, elektrik izolyasiyasını və müstəsna davamlılığı tələb edən tətbiqlər üçün hazırlanmış ən müasir keramika istilik elementləridir. Alüminium nitrid keramikasından mühəndis, bu qızdırıcılar, yarımkeçirici emal, tibbi diaqnostika və qabaqcıl analitik alətlər kimi yüksək dəqiqlikli mühitlər üçün ideal hala gətirərək sürətli və vahid istilik təmin edir.

Alüminium nitridi qızdırıcıları yarımkeçirici nazik film çökmə cihazlarında əsas komponentlərdir. Onlar birbaşa proses otağına və vafdanla birbaşa təmasda tətbiq olunur. Onlar təkcə gofreti daşımırlar, həm də vafferin əldə etdiyini də təmin edirlər 

Sabit və vahid proses temperaturu. Bu xüsusiyyət, gofret səthində yüksək dəqiqlikli reaksiyalar və vahid nazik filmlərin yaranması üçün vacibdir.

Adətən, alüminium nitridi qızdırıcıları, vafli yükləmə səthi və arxa tərəfində dəstəkləyən silindrik bir dəstək orqanı olan bir keramika substratını ehtiva edir. İstilik üçün müqavimətli bir istilik dövrəsinə əlavə olaraq, bir RF elektrod və elektrostatik bir elektrod və digər dirijorlar da keramika substratının səthində də təmin edilir.

İncə film çöküntü avadanlıqları ümumiyyətlə əsaslı keramika materiallarından istifadə edirAlüminium nitridi (ALN)Çünki bu, yüksək temperaturlu bir mühiti əhatə edir. Alüminium nitrid qızdırıcılarının yarımkeçiricisində bəyənilməsinin səbəbi əsasən bənzərsiz fiziki və kimyəvi xüsusiyyətləri ilə əlaqədardır. Alüminium nitridi nəinki yüksək istilik keçiriciliyi yoxdur və qısa müddət ərzində sürətli istilik və soyutma əldə edə bilər, həm də qızdırıcının sabitliyini və etibarlılığını təmin edən yaxşı elektrik izolyasiyası və mexaniki gücünə malikdir. Bundan əlavə, alüminium nitritin termal genişləndirilməsi əmsalı silikonun bənzəyir, bu da istilik stresinin gofretin təsirini azaltmağa və prosesin məhsuldarlığını yaxşılaşdırmağa kömək edir.

Ümumiyyətlə danışır,Seramik qızdırıcılarəsasən nazik film çökmə cihazlarında istifadə olunur. Yüksək temperaturlu proseslər daxil olduğu üçün istifadə olunan keramika materialları əsasən alüminium nitrididir; Elektrostatik chucks əsasən istifadə olunan avadanlıqlarda istifadə olunur və istifadə olunan keramika materialları əsasən alüminium oksididir. Yarımkeçirici texnologiyanın inkişafı ilə, keramika qızdırıcıları və elektrostatik chucks arasında üst-üstə düşür. Məsələn, nazik film çöküntü avadanlıqlarında istifadə olunan keramika qızdırıcıları, yüksək temperaturlu istilik və elektrostatik adsorbsiyasının ikili funksiyaları olan elektrostatik chucks ilə təchiz edilmişdir. Etching avadanlıqlarında istifadə olunan elektrostatik çaklar da yüksək temperaturlu proseslər də iştirak etməyə başlayır və keramika materialları alüminium oksidanın alüminium nitridi-ə qədər dəyişdirilməlidir.