Elektrostatik Chuck E-Chuck

Semicorex Electrostatic Chuck E-Chuck elektrostatik cazibə prinsipləri əsasında fəaliyyət göstərir, mexaniki sıxaclara və ya vakuum emişinə ehtiyac olmadan etibarlı və dəqiq vafli saxlama təklif edir, xüsusilə də aşındırma, ion vurma zamanı istifadə olunur.

antasiya, PVD, CVD və s. yarımkeçiricilərin emalı. Onun fərdiləşdirilə bilən ölçüləri onu geniş tətbiqlərə uyğunlaşdıraraq, onu yarımkeçiricilərin istehsalı proseslərində çeviklik və səmərəlilik axtaran şirkətlər üçün ideal seçim halına gətirir.

J-R tipli Elektrostatik Chuck E-Chuck-un arxasında duran əsas texnologiya, vafli və çuxurun səthi arasında elektrostatik qüvvə yaratmaq qabiliyyətidir. Bu qüvvə çuxurun içərisinə daxil edilmiş elektrodlara yüksək gərginlik tətbiq etməklə yaradılır ki, bu da həm vafli, həm də çubuqda yüklərə səbəb olur və bununla da güclü elektrostatik bağ yaradır. Bu mexanizm nəinki vafli yerində etibarlı şəkildə saxlayır, həm də vafli ilə çubuq arasında fiziki təması minimuma endirərək, həssas yarımkeçirici materiallara zərər verə biləcək potensial çirklənməni və ya mexaniki gərginliyi azaldır.

Semicorex müştərilərin tələblərindən asılı olaraq, 200 mm-dən 300 mm-ə qədər və ya daha böyük ölçüdə fərdi məhsullar istehsal edə bilər. Bu fərdiləşdirilə bilən variantları təklif etməklə, J-R tipli ESC plazma aşındırma, kimyəvi buxar çökdürmə (CVD), fiziki buxar çökdürmə (PVD) və ion implantasiyası daxil olmaqla bir sıra yarımkeçirici proseslər üçün maksimum çeviklik təmin edir.

Materiallara gəldikdə, Elektrostatik Çak E-Trand əla dielektrik xassələri, mexaniki gücü və istilik sabitliyi ilə tanınan alüminium oksidi (Al2O3) və ya alüminium nitrid (AlN) kimi yüksək keyfiyyətli keramika materiallarından hazırlanır. Bu keramika çuxura yüksək temperatur, korroziyalı mühit və plazma məruz qalma kimi yarımkeçiricilərin istehsalının sərt şərtlərinə tab gətirmək üçün lazımi davamlılığı təmin edir. Bundan əlavə, vafli ilə vahid təması təmin etmək, elektrostatik qüvvəni artırmaq və ümumi proses performansını artırmaq üçün keramika səthi yüksək dərəcədə hamarlıqla cilalanır.

Elektrostatik Chuck E-Chuck həmçinin yarımkeçiricilərin istehsalında tez-tez rast gəlinən istilik problemlərini həll etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Temperaturun idarə edilməsi, vafli temperaturun sürətlə dəyişə biləcəyi aşındırma və ya çökmə kimi proseslər zamanı vacibdir. Çubuqda istifadə edilən keramika materialları əla istilik keçiriciliyi təmin edir, istiliyi səmərəli şəkildə dağıtmağa və vaflinin sabit temperaturunu saxlamağa kömək edir.

Elektrostatik Chuck E-Chuck, hətta mikroskopik hissəciklərin son məhsulda qüsurlara səbəb ola biləcəyi yarımkeçirici istehsalında vacib olan hissəciklərin çirklənməsinin minimuma endirilməsinə diqqət yetirməklə hazırlanmışdır. Çuxurun hamar keramika səthi hissəciklərin yapışma ehtimalını azaldır və elektrostatik tutma mexanizmi sayəsində vafli ilə çubuq arasında fiziki təmasın azalması çirklənmə riskini daha da azaldır. J-R tipli ESC-nin bəzi modelləri həmçinin hissəcikləri dəf edən və korroziyaya qarşı müqavimət göstərən qabaqcıl səth örtükləri və ya emalları özündə birləşdirir, təmiz otaq mühitlərində çuxurun uzunömürlülüyünü və etibarlılığını artırır.

Xülasə, J-R tipli Elektrostatik Chuck E-Chuck yarımkeçirici istehsal proseslərində geniş spektrdə müstəsna performans təklif edən çox yönlü və etibarlı vafli saxlama həllidir. Onun fərdiləşdirilə bilən dizaynı, qabaqcıl elektrostatik tutma texnologiyası və möhkəm material xassələri onu ən yüksək təmizlik və dəqiqlik standartlarını qoruyarkən vafli ilə işləməyi optimallaşdırmaq istəyən şirkətlər üçün ideal seçimdir. Plazma aşındırma, çökmə və ya ion implantasiyasında istifadə olunmasından asılı olmayaraq, J-R tipli ESC müasir yarımkeçirici sənayesinin tələbkar ehtiyaclarını ödəmək üçün tələb olunan çeviklik, davamlılıq və səmərəliliyi təmin edir. Həm Coulomb, həm də Johnsen-Rahbek rejimlərində işləmək, yüksək temperaturları idarə etmək və hissəciklərin çirklənməsinə müqavimət göstərmək qabiliyyəti ilə J-R tipli ESC yüksək məhsuldarlıq və təkmilləşdirilmiş proses nəticələrinin axtarışında mühüm komponent kimi dayanır.