Üst yarım

Semikorex yuxarı yarı ay, epitaxial emal avadanlığı üçün diqqətlə hazırlanmış yarı dairəvi vafli daşıyıcısıdır. Epitaksial böyümə prosesində kritik bir həssas bir komponent olaraq, bu hissə, yüksək temperaturlu kimyəvi buxarlanma (CVD) zamanı silikon gofreti dəstəkləmək və sabitləşdirmək üçün hazırlanmışdır. Yüksək saflıq qrafitindən hazırlanan və vahid silikon karbid (SIC) örtüyü ilə qorunan, yuxarı yarı ay, mexaniki möhkəmliyi, əla istilik keçiriciliyini və yüksək dəqiqlikli epitaxy tələblərini ödəmək üçün müstəsna korroziya müqavimətini birləşdirir.

Bu məhsul öz adını fərqli bir yarım ay həndəsəsindən əldə edir, bu da tək vafli və ya çoxfabr-vafli epitaxial reaktorlarda xüsusi fırlanma platformaları üçün qurulmuş məqsədlidir. Onun unikal forması təkcə vahid qaz axını və termal paylamasını asanlaşdırmır, eyni zamanda mövcud istilik və fırlanma məclislərinə asanlıqla inteqrasiya etməyə imkan verir. Yarım dairəvi dizayn, optimal vaffer yerləşdirilməsini təmin edir, istilik stresini minimuma endirir və bütün gofret səthi boyunca vahid epitaxial film qalınlığının əldə edilməsində əsas rol oynayır.

Yuxarı yarım aylıq məhsulu, son dərəcə yüksək temperaturda sabit bir ultra incə bir quruluşun birləşdirilmiş performans faydalarına görə ultra incə qrafitin birləşdirilməsi, təkrar işləmə zamanı uğursuzluğa qarşı müqavimət göstərməklə birləşdirilmiş performans faydaları daxildir. İstifadəsi uzatmaq üçün, yüksək saflıq sıx bir sic örtük, HCL, CL₂, Silane və digər aşınma proses qazlarının qrafit substratını təcrid edən kimyəvi buxar çöküntü texnologiyası tərəfindən tətbiq edilmişdir. Nə olursa olsun, sic örtük həm yuxarı yarım ay məhsuluna, həm də onun ümumi yarı ayı və hətta vaffer mühitinin çirklənməsini azaldır, nəticədə proses gəlir və film keyfiyyətinə fayda gətirir.

SIC qatının səthi sonu müəyyən edilmiş və substrata və daimi film meydana gəlməsinə daimi istilik ötürməsini təşviq etmək üçün düz və ya hamardır. Üstəlik, SIC örtüyü qüsurlu yarımkeçirici tətbiqlərin əsas amili olan hissılmalara qarşı müqavimət göstərir. Performans parametrləri çox aşağı xarici və çox aşağı deformasiya daxil olmaqla, 1200 ° C-dən yuxarı çox aşağı deformasiya, çox uzun əməliyyat dövrləri üçün effektiv komponentlər, sistemin iş vaxtı və texniki xidmət xərclərini azaldır.

Semikorex yuxarı yarı ay dözümlülük, örtüklü vahidlik və material seçimi ilə əlaqədar ikinci deyil. Hər addımda, qrafit emalından, sic örtüklərin çökməsinə və son yoxlamanın, hər bölmənin verilməsini təmin edən hər vahidi yarımkeçirici dərəcəli avadanlıqların tələb etdiyi sərt standartlara cavab verir. Bundan əlavə, həndəsin, qalınlıqları və səth müalicələrini özelleştirmedə təcrübəmiz, epitaxy platformalarının demək olar ki, bütün formalarına tətbiq edilməsi tanınır.

Yuxarı yarım ay, silikon və ya mürəkkəb yarımkeçirici epitaxy üçün vober sabitliyi, istilik vahidliyi və çirklənmə nəzarəti üçün çox vacibdir. Müvafiq olaraq, semikorex misilsiz ekspertiza, maddi texnologiya və istehsal ardıcıllığı, etibarlı, yüksək performanslı suseptor komponentləri üçün müştəri gözləntilərinə nail olmaq üçün istehsal ardıcıllığı.