PSS Qrafik Tətbiqləri üçün Silikon Etch Plate

Semicorex-in PSS Qrafik Tətbiqləri üçün Silicon Etch Plate epitaksial böyümə və vafli işləmə prosesləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmış yüksək keyfiyyətli, ultra təmiz qrafit daşıyıcısıdır. Daşıyıcımız sərt mühitlərə, yüksək temperaturlara və sərt kimyəvi təmizləməyə davam edə bilər. PSS aşındırma tətbiqləri üçün silikon aşındırma lövhəsi əla istilik paylama xüsusiyyətlərinə, yüksək istilik keçiriciliyinə malikdir və qənaətcildir. Məhsullarımız bir çox Avropa və Amerika bazarlarında geniş istifadə olunur və biz Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı səbirsizliklə gözləyirik.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Semicorex-in PSS Qrafik Tətbiqləri üçün Silicon Etch Plate ən tələbkar epitaksiya avadanlığı tətbiqləri üçün hazırlanmışdır. Ultra təmiz qrafit daşıyıcımız sərt mühitlərə, yüksək temperaturlara və sərt kimyəvi təmizləməyə davam edə bilər. SiC örtüklü daşıyıcı əla istilik paylama xüsusiyyətlərinə, yüksək istilik keçiriciliyinə malikdir və qənaətcildir.

PSS Etch Tətbiqləri üçün Silicon Etch Plate parametrləri

CVD-SIC Kaplamasının Əsas Xüsusiyyətləri
SiC-CVD Xüsusiyyətləri
Kristal strukturu	FCC β fazası
Sıxlıq	q/sm³	3.21
Sərtlik	Vickers sərtliyi	2500
Taxıl ölçüsü	μm	2~10
Kimyəvi Saflıq	%	99.99995
İstilik tutumu	J kq-1 K-1	640
Sublimasiya temperaturu	℃	2700
Feleksual Gücü	MPa (RT 4 bal)	415
Gəncin Modulu	Gpa (4pt əyilmə, 1300℃)	430
Termal Genişlənmə (C.T.E)	10-6K-1	4.5
İstilik keçiriciliyi	(Vt/mK)	300