Gofret Vakuum Çəkisi

Yeni nəsil litoqrafiya və vafli işləmə tətbiqləri üçün mükəmməl olan Semicorex ultra təmiz keramika komponentləri minimal çirklənməni təmin edir və müstəsna olaraq uzun ömürlü performans təmin edir. Bizim Gofretli Vakuum Çakmağımız yaxşı qiymət üstünlüyünə malikdir və bir çox Avropa və Amerika bazarlarını əhatə edir. Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı səbirsizliklə gözləyirik.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Semicorex ultra yastı keramika Gofret Vakuum Çubuğu, vafli ilə işləmə prosesində istifadə edilən yüksək saflıqda SiC ilə örtülmüşdür. MOCVD avadanlığı ilə yarımkeçirici vafli vakuum çubuq Kompozisiyanın böyüməsi yüksək istilik və korroziyaya davamlılığa malikdir, ekstremal mühitdə böyük sabitliyə malikdir və yarımkeçirici vafli emalı üçün məhsuldarlığın idarə edilməsini yaxşılaşdırır. Aşağı səthlə təmas konfiqurasiyaları həssas tətbiqlər üçün arxa hissəciklərin riskini minimuma endirir.

Semicorex-də biz diqqətimizi yüksək keyfiyyətli, sərfəli Gofretli Vakuum Çubuğunu təmin etməyə yönəldir, müştəri məmnuniyyətini prioritetləşdiririk və sərfəli həllər təqdim edirik. Biz sizin uzunmüddətli partnyorunuz olmağı, yüksək keyfiyyətli məhsullar və müstəsna müştəri xidməti təqdim etməyi səbirsizliklə gözləyirik.

Gofret Vakuum Çəkinin Parametrləri

CVD-SIC Kaplamasının Əsas Xüsusiyyətləri
SiC-CVD Xüsusiyyətləri
Kristal strukturu	FCC Î² mərhələsi
Sıxlıq	q/sm³	3.21
Sərtlik	Vickers sərtliyi	2500
Taxıl ölçüsü	Î¼m	2~10
Kimyəvi Saflıq	%	99.99995
İstilik tutumu	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimasiya temperaturu	℃	2700
Feleksual Gücü	MPa (RT 4 bal)	415
Young's Modulu	Gpa (4pt əyilmə, 1300â)	430
Termal Genişlənmə (C.T.E)	10-6K-1	4.5
İstilikkeçirmə	(Vt/mK)	300