Gofret Proses Qızdırıcısı

Semicorex Gofret Proses Qızdırıcısı Silicon Carbide Coating (SiC) qrafitindən hazırlanmışdır, örtük yüksək sıxlıqlı qrafitin xüsusi növlərinə CVD üsulu ilə tətbiq olunur, beləliklə, inert atmosferdə 3000 °C-dən yuxarı yüksək temperaturlu sobada işləyə bilər, Vakuumda 2200°C.
Wafer Process Heater materialının xüsusi xassələri və aşağı kütləsi sürətli isitmə dərəcələrinə, vahid temperatur paylanmasına və nəzarətdə yüksək dəqiqliyə imkan verir. Digər materiallarla müqayisədə Silikon Karbidin səthi temperaturun sürətli dəyişməsi ilə işləyərkən belə aşağı istilik genişlənməsinə görə düz qalır. İsti plitələr yarımkeçirici emal sistemlərində tələb olunan proseslər üçün çox uyğundur.
Semicorex-də biz müştərilərimizə yüksək keyfiyyətli, sərfəli məhsullar təqdim etməyə diqqət yetiririk. Bizim Gofret Proses Qızdırıcımız qiymət üstünlüyünə malikdir və bir çox Avropa və Amerika bazarlarına ixrac olunur. Ardıcıl keyfiyyətli məhsullar və müstəsna müştəri xidməti təqdim edərək uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı hədəfləyirik.

Gofret Proses Qızdırıcısının Parametrləri

Gofret Proses Qızdırıcısının Xüsusiyyətləri

- Xidmət müddətini yaxşılaşdırmaq üçün CVD SiC örtükləri.
- Yüksək temperatur müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, uzun xidmət müddəti, vafli keyfiyyətini və məhsuldarlığını yaxşılaşdıra bilər.
- Son dərəcə aşağı istilik genişlənmə əmsalı, yüksək temperatur müqaviməti, yüksək aşınma müqaviməti, yaxşı izolyasiya, yaxşı kimyəvi dayanıqlıq və bənövşəyi (qırmızı) görünən işığın nüfuzuna malikdir.

Antioksidləşmə və uzun ömürlü qrafit pota, qrafit qəlib və qrafit qızdırıcının bütün hissələrini təmin edə bilərik.