Bərk silisium karbid fokuslama halqası

Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring yarımkeçirici istehsalında əsas komponentdir və strateji olaraq birbaşa əlaqə saxlamaq üçün vaflidən kənarda yerləşdirilir. Tətbiq olunan gərginlikdən istifadə edərək, bu halqa plazmanı onun üzərindən keçən plazmaya yönəldir və bununla da vaflidə prosesin vahidliyini artırır. Yalnız Kimyəvi Buxar Depoziti Silikon Karbidindən (CVD SiC) hazırlanmış bu fokus halqası yarımkeçirici sənayesinin tələb etdiyi müstəsna keyfiyyətləri özündə cəmləşdirir. Biz Semicorex-də keyfiyyəti qənaətcilliklə birləşdirən yüksək performanslı Bərk Silikon Karbid Fokuslama Halqasının istehsalına və təchizatına həsr olunmuşuq.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Yarımkeçiricilərin istehsalında Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring, aşındırma prosesi zamanı vaflinin bütövlüyünü qoruyaraq, qalxan rolunu oynayaraq mühüm rol oynayır. Onun diqqətlə işlənmiş dizaynı dəqiq və vahid aşındırma təmin edir və bununla da üstün performans və etibarlılıq nümayiş etdirən yüksək mürəkkəb yarımkeçirici elementlərin istehsalını asanlaşdırır.

Silikon karbid, vakuum reaksiya kamerası daxilində plazmaya məruz qaldıqda plazma korroziyasına qarşı üstün müqavimətinə görə fokuslama halqası üçün seçim materialıdır. Bərk Silikon Karbid Fokuslama Üzük bir neçə aspektdə ənənəvi silisiumdan üstündür, o cümlədən:

(1) Aşınma dərəcələrini minimuma endirən yüksək sıxlıq.

(2) Üstün bant boşluğu və əla izolyasiya xüsusiyyətləri.

(3) Müstəsna istilik keçiriciliyi, aşağı istilik genişlənmə əmsalı və termal şok müqaviməti.

(4) Yüksək elastiklik və mexaniki təsirlərə qarşı əla müqavimət.

(5) Görkəmli sərtlik, aşınma müqaviməti və korroziyaya qarşı müqavimət.

Silikon karbidin keçiriciliyi və ionların aşındırılmasına qarşı müqaviməti silisiuma bənzəyir və bərk silisium karbid fokuslama halqasını bu tətbiq üçün ideal material edir.

Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring, yarımkeçiricilər istehsalı sahəsində ən müasir həll yolu kimi dayanır. O, yarımkeçirici texnologiyanın inkişafına əhəmiyyətli dərəcədə töhfə verən etibarlı, yüksək performanslı aşındırma proseslərini asanlaşdırmaq üçün CVD SiC-nin unikal xüsusiyyətlərindən istifadə edir.