- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Şirkət xəbərləri
CVD Əməliyyatlarında Plazma Prosesləri
Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (CVD) müxtəlif qismən təzyiqlərdə çoxlu qaz reaktivlərinin xüsusi temperatur və təzyiq şəraitində kimyəvi reaksiyaya məruz qaldığı bir proses texnologiyasına aiddir. Yaranan bərk maddə substrat materialının səthinə çökür və bununla da istədiyiniz nazik film əldə edilir. Ənənə......
Daha çox oxu
Yarımkeçiricilər istehsalında silikon epitaksial təbəqələr və substratlar
Müasir elektronika, optoelektronika, mikroelektronika və informasiya texnologiyaları sahələrində yarımkeçirici substratlar və epitaksial texnologiyalar əvəzolunmazdır. Onlar yüksək performanslı, yüksək etibarlı yarımkeçirici cihazların istehsalı üçün möhkəm zəmin yaradır. Texnologiya irəliləməyə dav......
Daha çox oxu
İlk 6 düymlük Qallium Oksid substratı sənayeləşdirmə şirkəti
Bu yaxınlarda şirkətimiz elan etdi ki, şirkət tökmə üsulu ilə 6 düymlük Qallium Oksid monokristalını uğurla inkişaf etdirərək, 6 düymlük Qallium Oksidin monokristal substratının hazırlanması texnologiyasını mənimsəyən ilk yerli sənayeləşmiş şirkət oldu.
Daha çox oxu
İstilik sahəsinin izolyasiya materialı
Monokristal silisium artımı prosesi əsasən termal mühitin keyfiyyətinin kristal keyfiyyətinə və böyümənin səmərəliliyinə əhəmiyyətli dərəcədə təsir etdiyi termal sahədə baş verir. İstilik sahəsinin dizaynı soba kamerasında temperatur gradientlərinin və qaz axınının dinamikasının formalaşmasında mühü......
Daha çox oxu
