MOCVD Giriş Üzükləri

Semicorex, Çində Silikon Karbid Kaplamalı Qrafitin geniş miqyaslı istehsalçısı və təchizatçısıdır. MOCVD Giriş Üzüklərimiz yaxşı qiymət üstünlüyünə malikdir və bir çox Avropa və Amerika bazarlarını əhatə edir. Biz sizin uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı səbirsizliklə gözləyirik.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Semicorex, RTA, RTP və ya sərt kimyəvi təmizləmə üçün həqiqətən sabit olan çökdürmə və vafli emalda istifadə olunan MOCVD Giriş Halqalarını təmin edir. MOCVD Giriş Üzüklərimiz yüksək təmizlikli silisium karbid (SiC) ilə örtülmüş qrafit konstruksiyaya malikdir, bu da üstün istilik müqavimətini, epi təbəqənin davamlı qalınlığı və müqaviməti üçün hətta istilik vahidliyini və davamlı kimyəvi müqaviməti təmin edir. İncə SiC kristal örtüyü təmiz, hamar səth təmin edir, işləmək üçün kritikdir, çünki təmiz vaflilər bütün ərazilərində bir çox nöqtədə həssaslıqla əlaqə saxlayır.

Semicorex-də biz yüksək keyfiyyətli, sərfəli MOCVD Giriş Üzüklərini təmin etməyə diqqət yetiririk, müştəri məmnuniyyətini prioritetləşdiririk və sərfəli həllər təqdim edirik. Biz sizin uzunmüddətli partnyorunuz olmağı, yüksək keyfiyyətli məhsullar və müstəsna müştəri xidməti təqdim etməyi səbirsizliklə gözləyirik.

MOCVD Giriş Halqalarının Parametrləri

CVD-SIC Kaplamasının Əsas Xüsusiyyətləri
SiC-CVD Xüsusiyyətləri
Kristal strukturu	FCC Î² mərhələsi
Sıxlıq	q/sm³	3.21
Sərtlik	Vickers sərtliyi	2500
Taxıl ölçüsü	Î¼m	2~10
Kimyəvi Saflıq	%	99.99995
İstilik tutumu	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimasiya temperaturu	℃	2700
Feleksual Gücü	MPa (RT 4 bal)	415
Young's Modulu	Gpa (4pt əyilmə, 1300â)	430
Termal Genişlənmə (C.T.E)	10-6K-1	4.5
İstilikkeçirmə	(Vt/mK)	300