Yarımkeçiricilərin emalı üçün davamlı fokus halqaları

Yarımkeçiricilərin emalı üçün Semicorex davamlı fokus halqaları yarımkeçiricilərin emalında istifadə olunan plazma aşındırma kameralarının ekstremal mühitlərinə tab gətirmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Fokus üzüklərimiz sıx, aşınmaya davamlı silisium karbid (SiC) örtüyü ilə örtülmüş yüksək təmizlikli qrafitdən hazırlanmışdır. SiC örtüyü yüksək korroziyaya və istilik müqavimətinə, həmçinin əla istilik keçiriciliyinə malikdir. Fokus halqalarımızın xidmət müddətini yaxşılaşdırmaq üçün kimyəvi buxar çökmə (CVD) prosesindən istifadə edərək qrafit üzərinə nazik təbəqələrdə SiC tətbiq edirik.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Yarımkeçiricilərin emalı üçün dayanıqlı fokus halqalarımız vaflinin kənarı və ya perimetri ətrafında aşındırma vahidliyini yaxşılaşdırmaq, çirklənməni və planlaşdırılmamış təmiri minimuma endirmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Onlar sürətli termal yumşalma (RTA), sürətli termal emal (RTP) və sərt kimyəvi təmizləmə üçün yüksək sabitdir.

Semicorex-də biz yarımkeçiricilərin emalı üçün yüksək keyfiyyətli, sərfəli davamlı fokus halqaları təmin etməyə diqqət yetiririk, müştəri məmnuniyyətini prioritetləşdiririk və sərfəli həllər təqdim edirik. Biz sizin uzunmüddətli partnyorunuz olmağı, yüksək keyfiyyətli məhsullar və müstəsna müştəri xidməti təqdim etməyi səbirsizliklə gözləyirik.

Yarımkeçirici emal üçün davamlı fokus halqalarımız haqqında daha çox öyrənmək üçün bu gün bizimlə əlaqə saxlayın.

Yarımkeçiricilərin emalı üçün dayanıqlı fokus halqalarının parametrləri

CVD-SIC Kaplamasının Əsas Xüsusiyyətləri
SiC-CVD Xüsusiyyətləri
Kristal strukturu	FCC Î² mərhələsi
Sıxlıq	q/sm³	3.21
Sərtlik	Vickers sərtliyi	2500
Taxıl ölçüsü	Î¼m	2~10
Kimyəvi Saflıq	%	99.99995
İstilik tutumu	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimasiya temperaturu	℃	2700
Feleksual Gücü	MPa (RT 4 bal)	415
Young's Modulu	Gpa (4pt əyilmə, 1300â)	430
Termal Genişlənmə (C.T.E)	10-6K-1	4.5
İstilikkeçirmə	(Vt/mK)	300