TaC örtük lövhəsi

Semicorex TaC Kaplama Plakasının ultra yüksək təmizliyi onun yarımkeçiricilərin emalı zamanı çirklənmənin və çirklənmənin qarşısının alınmasında əhəmiyyətini göstərən əlamətdar xüsusiyyətdir. TaC örtüyünün bu yüksək təmizliyi hətta iz çirkləndiricilərinin işlənmiş materialların keyfiyyətinə və performansına kəskin təsir göstərə biləcəyi mühitlərdə vacibdir. Təmiz interfeys saxlamaqla, TaC Örtük Plate yarımkeçirici cihazların ciddi performans standartlarına cavab verməsini təmin edir.

2500°C-ə qədər olan temperaturlara tab gətirmək qabiliyyəti ilə TaC Örtük Plate, həddindən artıq istiliyi əhatə edən proseslər üçün ardıcıl olaraq tətbiq olunan əla istilik sabitliyinə malikdir. Bu yüksək temperatur müqaviməti örtüyün bütöv və tam funksional qalmasını təmin edərək, altındakı substratı termal deqradasiyadan qoruyur. Nəticə olaraq, TaC Kaplama Plitəsi yüksək temperaturlu tətbiqlərdə örtük çatışmazlığı riski olmadan etibarlı şəkildə istifadə oluna bilər və ümumi prosesin səmərəliliyini artırır.

TaC örtük lövhəsi hidrogen (H2), ammonyak (NH3), silan (SiH4) və silisium (Si) daxil olmaqla, kimyəvi cəhətdən aqressiv maddələrin geniş spektrinə qarşı üstün müqavimət göstərir. Bu kimyəvi müqavimət plitələrin korroziyaya və kimyəvi aşınmaya məruz qalmadan düşmən mühitlərdə effektiv işləməsini təmin edir. Bu imkan xüsusilə reaktiv kimyəvi maddələrə məruz qalmanın müntəzəm olduğu və avadanlığın uzunömürlülüyünə və performansına əhəmiyyətli dərəcədə təsir göstərə biləcəyi yarımkeçirici istehsalında faydalıdır.

TaC örtüyü ilə qrafit substratı arasındakı möhkəm yapışma, hətta davamlı yüksək temperatur və kimyəvi cəhətdən aqressiv şəraitdə belə soyulmadan və ya təbəqələşmədən uzunmüddətli istifadəyə tab gətirmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Bu davamlılıq təmir və dəyişdirmə tezliyini azaldır, fasiləsiz əməliyyatlara imkan verir və ümumi əməliyyat xərclərini azaldır. TaC Kaplama Plakasının uzadılmış xidmət müddəti onların yarımkeçiricilərin istehsalında etibarlı komponent kimi qalmasını təmin edir.

TaC Örtük Plitəsi əla termal zərbəyə davamlılığı sayəsində krekinq və ya struktur nasazlığı olmadan sürətli temperatur dəyişikliklərini idarə etmək üçün hazırlanmışdır. Bu xüsusiyyət onlara emal dövrləri zamanı temperatur dəyişikliklərinə tez uyğunlaşmağa imkan verir, istehsal sürətini və səmərəliliyini artırır. Termal şoka zərər vermədən dözmək qabiliyyəti daha sadə və səmərəli istehsal prosesinə kömək edir, çünki avadanlıq müxtəlif temperatur vəziyyətləri arasında sürətlə keçid edə bilir.

TaC örtüyünün tətbiqi ciddi ölçülü dözümlülüklərə cavab vermək üçün ciddi şəkildə idarə olunur və TaC Örtük Plakasının yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarının tələb etdiyi spesifikasiyalara mükəmməl uyğun olmasını təmin edir. Bu dəqiqlik mürəkkəb sistemlərlə uyğunluğu qorumaq və optimal performansa nail olmaq üçün çox vacibdir. Kaplamanın ardıcıl tətbiqi bütün səthlərin bərabər şəkildə qorunmasına zəmanət verir, yüksək dəqiqlikli proseslərdə plitələrin etibarlılığını artırır.