TaC örtüklü bələdçi halqası

-nin funksiyasıTaC örtüklü bələdçi halqası:

Dəqiq qaz axını nəzarəti:TaC Kaplama Bələdçi Halqası strateji olaraq MOCVD reaktorunun qaz vurma sistemi daxilində yerləşdirilib. onun əsas funksiyası prekursor qazların axını istiqamətləndirmək və onların substratın vafli səthi boyunca vahid paylanmasını təmin etməkdir. Qaz axınının dinamikasına bu dəqiq nəzarət vahid epitaksial təbəqənin böyüməsinə və istənilən material xüsusiyyətlərinə nail olmaq üçün vacibdir.

Termal İdarəetmə:TaC Örtük Bələdçi Halqası qızdırılan həssas və substrata yaxın olduqlarına görə tez-tez yüksək temperaturda işləyir. TaC-nin əla istilik keçiriciliyi istiliyi effektiv şəkildə dağıtmağa kömək edir, lokallaşdırılmış həddindən artıq istiləşmənin qarşısını alır və reaksiya zonasında sabit temperatur profilini saxlayır.

MOCVD-də TaC-nin üstünlükləri:

Həddindən artıq temperatur müqaviməti:TaC 3800°C-dən yuxarı bütün materiallar arasında ən yüksək ərimə nöqtələrindən birinə malikdir. 

Üstün Kimyəvi İnertlik:TaC, ammonyak, silan və müxtəlif metal-üzvi birləşmələr kimi MOCVD-də istifadə olunan reaktiv prekursor qazların korroziyaya və kimyəvi hücumuna müstəsna müqavimət göstərir.

TaC və SiC-nin korroziyaya davamlılığının müqayisəsi

Aşağı istilik genişlənməsi:TaC-nin aşağı istilik genişlənmə əmsalı MOCVD prosesi zamanı temperaturun dəyişməsi səbəbindən ölçü dəyişikliklərini minimuma endirir. 

Yüksək aşınma müqaviməti:TaC-nin sərtliyi və davamlılığı MOCVD sistemi daxilində qazların və potensial hissəciklərin daimi axınından aşınmaya və yıpranmaya qarşı əla müqavimət göstərir. 

MOCVD Performansı üçün üstünlüklər:

MOCVD avadanlığında Semicorex TaC Kaplama Bələdçi Halqasının istifadəsi aşağıdakılara əhəmiyyətli töhfə verir:

Təkmilləşdirilmiş epitaksial təbəqənin vahidliyi:TaC örtüklü bələdçi halqası tərəfindən asanlaşdırılan dəqiq qaz axını nəzarəti prekursorların vahid paylanmasını təmin edir, nəticədə ardıcıl qalınlıq və tərkiblə yüksək vahid epitaksial təbəqə artımı əldə edilir.

Təkmilləşdirilmiş Proses Sabitliyi:TaC-nin istilik sabitliyi və kimyəvi təsirsizliyi MOCVD kamerası daxilində daha sabit və idarə olunan reaksiya mühitinə kömək edir, proses dəyişikliklərini minimuma endirir və təkrar istehsal qabiliyyətini artırır.

Artan avadanlıq işləmə müddəti:TaC örtüklü bələdçi halqası-in davamlılığı və uzadılmış ömrü tez-tez dəyişdirmə ehtiyacını azaldır, texniki xidmətin dayanma müddətini minimuma endirir və MOCVD sisteminin əməliyyat səmərəliliyini artırır.