TaC örtüklü pota

Yarımkeçirici kristalların böyüməsində Semicorex TaC-örtmə potasının əsas üstünlükləri:

Üstün Kristal Keyfiyyəti üçün Ultra Yüksək Saflıq:Yüksək təmizlikli izostatik qrafit və kimyəvi cəhətdən inert TaC örtüyünün birləşməsi çirklərin əriməyə daxil olması riskini minimuma endirir. Bu, yüksək performanslı yarımkeçirici cihazlar üçün tələb olunan müstəsna material təmizliyinə nail olmaq üçün vacibdir.

Kristal vahidliyi üçün dəqiq temperatur nəzarəti:TaC örtüyü ilə gücləndirilmiş izostatik qrafitin vahid istilik xüsusiyyətləri ərimə boyunca dəqiq temperatur nəzarətinə imkan verir. TaC-örtmə potasının bu vahidliyi kristallaşma prosesinə nəzarət etmək, qüsurları minimuma endirmək və böyümüş kristalda homojen elektrik xassələrinə nail olmaq üçün çox vacibdir.

Təkmilləşdirilmiş Proses İqtisadiyyatı üçün Uzadılmış Crucible Ömrü:Möhkəm TaC örtüyü aşınmaya, korroziyaya və termal şoka qarşı müstəsna dayanıqlıq təmin edir, örtülməmiş alternativlərlə müqayisədə TaC-Coating Crucible-ın istismar müddətini əhəmiyyətli dərəcədə uzadır. Bu, daha az pota dəyişdirilməsi, azaldılmış dayanma müddəti və ümumi proses iqtisadiyyatının yaxşılaşdırılması deməkdir.

Qabaqcıl yarımkeçirici tətbiqlərin aktivləşdirilməsi:

Qabaqcıl TaC-Coating Crucible yeni nəsil yarımkeçirici materialların böyüməsində getdikcə daha çox istifadə olunur:

Mürəkkəb yarımkeçiricilər:TaC-Coating Crucible tərəfindən təmin edilən idarə olunan mühit və kimyəvi uyğunluq yüksək tezlikli elektronika, optoelektronika və digər tələbkar tətbiqlərdə istifadə olunan qalium arsenid (GaAs) və indium fosfid (InP) kimi mürəkkəb mürəkkəb yarımkeçiricilərin böyüməsi üçün vacibdir. .

Yüksək ərimə nöqtəli materiallar:TaC-Örtük Crucible-in müstəsna temperatur müqaviməti onu yüksək ərimə nöqtəli yarımkeçirici materialların, o cümlədən silisium karbid (SiC) və qallium nitridin (GaN) inkişafı üçün ideal hala gətirir, bunlar enerji elektronikasında və digər yüksək performanslı tətbiqlərdə inqilab edir.