Məhsullar

Epitaksiya və MOCVD kimi vafli işləmə proseslərinə gəldikdə, Semicorex-in Plazma Etch Kameraları üçün Yüksək Temperatur SiC Kaplaması ən yaxşı seçimdir. Daşıyıcılarımız incə SiC kristal örtüyümüz sayəsində üstün istilik müqaviməti, hətta istilik vahidliyi və davamlı kimyəvi müqavimət təmin edir.

Semicorex-in ICP Plazma Ovlama Tablası, epitaksiya və MOCVD kimi yüksək temperaturda vafli işləmə prosesləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır. 1600°C-ə qədər sabit, yüksək temperaturda oksidləşmə müqaviməti ilə daşıyıcılarımız hətta istilik profillərini, laminar qaz axını modellərini təmin edir və çirklənmənin və ya çirklərin yayılmasının qarşısını alır.

Semicorex-in ICP Plazma Aşındırma Sistemi üçün SiC örtüklü daşıyıcısı epitaksiya və MOCVD kimi yüksək temperaturda vafli işləmə prosesləri üçün etibarlı və sərfəli həlldir. Daşıyıcılarımız üstün istilik müqavimətini, hətta istilik vahidliyini və davamlı kimyəvi müqaviməti təmin edən gözəl SiC kristal örtüyə malikdir.

Semicorex-in İnduktiv Birləşdirilmiş Plazma (ICP) üçün silisium karbidlə örtülmüş sensoru epitaksiya və MOCVD kimi yüksək temperaturda vafli işləmə prosesləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır. 1600°C-ə qədər sabit, yüksək temperaturda oksidləşmə müqaviməti ilə daşıyıcılarımız hətta istilik profillərini, laminar qaz axını modellərini təmin edir və çirklənmənin və ya çirklərin yayılmasının qarşısını alır.

Semicorex-in ICP aşındırıcı vafli tutacağı epitaksiya və MOCVD kimi yüksək temperaturda vafli işləmə prosesləri üçün mükəmməl həlldir. 1600°C-ə qədər sabit, yüksək temperaturda oksidləşmə müqaviməti ilə daşıyıcılarımız hətta istilik profillərini, laminar qaz axını modellərini təmin edir və çirklənmənin və ya çirklərin yayılmasının qarşısını alır.

Semicorex-in ICP Aşınma Daşıyıcı Plitəsi vafli ilə işləmə və nazik təbəqənin çökmə prosesləri üçün mükəmməl həlldir. Məhsulumuz üstün istilik və korroziyaya davamlılıq, hətta istilik vahidliyi və laminar qaz axını nümunələri təmin edir. Təmiz və hamar səthə malik daşıyıcımız təmiz vaflilərlə işləmək üçün mükəmməldir.