> Xəbərlər

Xəbərlər

Aşındırma prosesinin parametrləri

Aşınma çip istehsalında kritik bir addımdır, silikon vaflilərdə kiçik dövrə strukturları yaratmaq üçün istifadə olunur.

Süni intellekt və fizikanın birləşməsi: Nobel mükafatının arxasında CVD texnoloji innovasiyası

Fizika üzrə 2024-cü il Nobel Mükafatının bu yaxınlarda elan edilməsi süni intellekt sahəsinə görünməmiş diqqəti cəlb edib.

Daha çox oxu

Yarımkeçirici dopinq prosesi

Yarımkeçirici materialların unikal xüsusiyyətlərindən biri odur ki, onların keçiriciliyi, eləcə də keçiricilik növü (N-tipi və ya P-tipi) dopinq adlanan proses vasitəsilə yaradıla və idarə oluna bilər. Bu, vaflinin səthində birləşmələr yaratmaq üçün materiala əlavə maddələr kimi tanınan xüsusi çirkl......

Daha çox oxu

PECVD Prosesi

Plazma Təkmilləşdirilmiş Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (PECVD) çip istehsalında geniş istifadə olunan texnologiyadır. O, plazmadakı elektronların kinetik enerjisindən qaz fazasında kimyəvi reaksiyaları aktivləşdirmək üçün istifadə edir və bununla da nazik təbəqənin çökməsinə nail olur.

Daha çox oxu

Silikon karbid vafli emalında qüsurların aşkarlanması

SiC substratları silisium karbid sənayesində ən vacib komponentdir və dəyərinin təxminən 50% -ni təşkil edir. SiC substratları olmadan, SiC cihazlarını istehsal etmək mümkün deyil, onları əsas maddi təməl edir.

Daha çox oxu

Dummy Wafer nədir

Dummy Wafer, əsasən vafli istehsalı prosesi zamanı maşın avadanlığını doldurmaq üçün istifadə edilən xüsusi vaflidir.

Daha çox oxu

<...13 14 15 16 17...47 >