Aşağı temperaturda plazma aşındırma nədir?

Plazma maddənin dördüncü vəziyyətidir və həm sənaye tətbiqlərində, həm də təbii hadisələrdə həlledici rol oynayır. Məsələn, plazma ildırımda mövcuddur və əsas temperaturun heyrətamiz 13500°C-ə çatdığı günəşin səthində bolca əmələ gəlir. Bu yüksək temperaturlu plazma əksər sənaye istehsal prosesləri üçün uyğun deyil.

Digər tərəfdən, aşağı temperaturlu plazma kimyəvi reaksiyaları sürətləndirmək üçün istilikdən deyil, enerjidən istifadə edən süni şəkildə yaradılmış plazma formasıdır. Onun temperaturu adətən otaq temperaturundan bir neçə yüz dərəcə Selsiyə qədər dəyişir və bu onu müxtəlif tətbiqlər üçün yüksək effektiv edir.

Süni plazma yaratmaq üçün addımlar:

1. Kameradakı təzyiqi azaldın: Boşluqdakı təzyiqi azaltmaq üçün vakuum nasosundan istifadə edərək başlayın. Aşağı təzyiqə nail olmaq plazmanın sabitləşməsi və qazın ionlaşmasının asanlaşdırılması üçün vacibdir.

2. Proses Qazını təqdim edin: Boşluğa xüsusi proses qazları yeridin. Bu qazlar plazmadakı hissəciklərin əsas mənbəyi kimi xidmət edir.

3. Plazmanı həyəcanlandırın: Qazı ionlaşdırmaq üçün güc tətbiq edin, plazmanı effektiv şəkildə əmələ gətirin.

4. Plazmanı deaktiv edin və atmosfer təzyiqini bərpa edin: İstədiyiniz reaksiyalar tamamlandıqdan sonra plazmanı söndürün və kameranı atmosfer təzyiqinə qaytarın.

Yarımkeçiricilər İstehsalında Aşağı Temperaturlu Plazmanın Tətbiqləri:

Aşağı temperaturlu plazma quru aşındırma, fiziki buxar çökdürmə (PVD), kimyəvi buxar çökmə (CVD), atom təbəqəsinin çökməsi (ALD), ion implantasiyası, küllənmə və son nöqtənin aşkarlanmasında kritik funksiyalara xidmət edən yarımkeçirici istehsalında əvəzolunmazdır. Onun universallığı və səmərəliliyi onu sənayedə əsas alətə çevirir.

Semicorex təklif edirplazma aşındırma üçün yüksək keyfiyyətli həllər. Hər hansı bir sualınız varsa və ya əlavə məlumatlara ehtiyacınız varsa, bizimlə əlaqə saxlamaqdan çəkinməyin.

Əlaqə telefonu +86-13567891907

E-poçt: sales@semicorex.com