Yarım Ay komponentləri

Semicorex Yarım Ay Komponentləri adətən epitaksial reaktorların daxilində quraşdırılmış yarı silindrik və ya seqmentli daxili reaktor strukturlarıdır. Onların unikal həndəsəsi epitaksial böyümə prosesləri zamanı qaz paylanması, istilik idarəetmə, vafli yerləşdirmə və kameranın qorunmasını optimallaşdırmağa kömək edir.

Göstərilən məhsul, LPE tipli kamera konfiqurasiyalarına uyğunlaşmaq üçün xüsusi olaraq hazırlanmış, inteqrasiya olunmuş daxili dəstək həndəsəsi ilə dəqiq işlənmiş silindrik quruluşa malikdir. Bu komponentlər adətən yüksək təmizlikli qrafitdən hazırlanır və davamlılığı, saflığı və kimyəvi müqaviməti yaxşılaşdırmaq üçün qabaqcıl CVD silisium karbid (SiC) örtükləri ilə qorunur.

Epitaksial reaktorlarda komponentin sabitliyi və təmizliyi birbaşa filmin vahidliyinə, kristal keyfiyyətinə və vafli məhsuldarlığına təsir göstərir. Buna görə də, reaktorun daxili hissələri aqressiv kimyəvi mühitlərə, sürətli istilik dövriyyəsinə və deformasiya və ya çirklənmədən uzun müddət yüksək temperaturda işləməyə davam etməlidir.

LPE tipli kameralara uyğun reaktor hissələri

Semicorex LPE epitaksial sistemlərinə uyğun bir neçə reaktor hissələri istehsal edir, o cümlədən:

* Yarım ay hissələri

* Qoruyucu örtüklər

* Axın bələdçisi hissələri

* Gofret dəstək hissələri

* Qoruyucu üzüklər

* Xüsusi qrafit birləşmələri

Bütün komponentlər reaktor ölçülərinə, proses şərtlərinə və müştərinin xüsusi dizayn tələblərinə uyğun olaraq fərdiləşdirilə bilər.

Yarım Ay Komponentlərinin Əsas Xüsusiyyətləri

Yüksək Təmizlikli Qrafit Əsas Material

Reaktor komponentləri yüksək sıxlıq, yüksək təmizlik istifadə edərək istehsal olunurizostatik qrafit materiallarıyarımkeçirici tətbiqlər üçün xüsusi olaraq seçilmişdir. Aşağı çirk tərkibi epitaksial böyümə prosesləri zamanı çirklənmə risklərini minimuma endirməyə kömək edir.

Yüksək təmizlik materialları saxlamaq üçün vacibdir:

* Stabil kristal böyüməsi

* Vahid epitaksial təbəqələr

* Aşağı qüsur sıxlığı

* Yarımkeçirici dərəcəli təmizlik

Qabaqcıl SiC örtük qorunması

Tələb olunan proses mühitləri üçün qrafit substratı sıx örtülmüş ola bilərCVD silisium karbid. SiC örtüyü əla yapışma və kimyəvi sabitliyə malik yüksək qoruyucu səth təbəqəsi əmələ gətirir.

SiC örtüyü təmin edir:

* Üstün korroziyaya davamlılıq

* Azaldılmış hissəcik istehsalı

* Təkmilləşdirilmiş aşınma müqaviməti

* Artırılmış oksidləşmə müqaviməti

* Daha uzun xidmət müddəti

Kaplama həmçinin qrafit substratını texnoloji qazlardan və aqressiv təmizləyici kimyəvi maddələrdən qoruyur.

Əla Termal Sabitlik

Yarım Ay Komponentləri istilik konsistensiyasının kritik olduğu yüksək temperaturlu epitaksial reaktorlarda işləyir. Qrafit və SiC materialları əla istilik keçiriciliyi və istilik şokuna qarşı müqavimət təklif edir, sürətli isitmə və soyutma dövrlərində sabit kamera şəraitini qorumağa kömək edir.

Mükəmməl istilik performansı aşağıdakılara kömək edir:

* Vahid temperatur paylanması

* Azaldılmış istilik gərginliyi

* Sabit prosesin təkrarlanması

* Təkmilləşdirilmiş epitaksial təbəqənin tutarlılığı

Dəqiq emal qabiliyyəti

Semicorex, sıx ölçülü tolerantlıqlara və mürəkkəb daxili strukturlara nail olmaq üçün qabaqcıl CNC emal və dəqiq istehsal texnologiyalarından istifadə edir.

Dəqiq emal təmin edir:

* Reaktorun düzgün quraşdırılması

* Sabit qaz axını nəzarəti

* Etibarlı vafli yerləşdirmə

* Davamlı kamera performansı

Mürəkkəb fərdi həndəsələr də xüsusi reaktor dizaynlarına uyğun olaraq istehsal edilə bilər.

Güclü Kimyəvi Müqavimət

Epitaksial proseslər tez-tez aşındırıcı qazlar və sərt iş şəraitini əhatə edir. SiC örtüklü reaktor komponentləri əla müqavimət göstərir:

* Hidrogen

* Xlor tərkibli qazlar

* Turşu təmizləyici kimyəvi maddələr

* Yüksək temperaturda oksidləşmə

Bu kimyəvi davamlılıq komponentin ömrünü əhəmiyyətli dərəcədə uzadır və texniki xidmət tezliyini azaldır.

Epitaksial böyümə sistemlərində tətbiqlər

Yarım Ay Komponentləri yarımkeçirici istehsal proqramları üçün qabaqcıl epitaksial emal avadanlıqlarında geniş istifadə olunur, o cümlədən:

* Silikon epitaksiyası

* SiC epitaksial artım

* GaN epitaksiyası

* Güclü yarımkeçiricilərin istehsalı

* LED istehsalı

* Qabaqcıl vafli emalı

* Yüksək temperaturlu CVD sistemləri

Reaktor kamerasının daxilində bu komponentlər qaz axınının dinamikasını optimallaşdırmağa, prosesin vahidliyini qorumağa və kritik kamera sahələrini istilik və kimyəvi zədələrdən qorumağa kömək edir.

Niyə Semicorex seçin?

Semicorex yarımkeçirici və yüksək temperaturlu sənaye tətbiqləri üçün qabaqcıl qrafit və silisium karbid həllərinə diqqət yetirir. Epitaksial reaktor komponentlərində geniş təcrübəmizlə biz uzunmüddətli etibarlılıq və yarımkeçirici dərəcəli performans üçün nəzərdə tutulmuş dəqiqliklə hazırlanmış məhsullar təqdim edirik.

Üstünlüklərimizə aşağıdakılar daxildir:

* Yüksək təmizlikli xammal

* Qabaqcıl SiC örtük texnologiyası

* Dəqiq emal qabiliyyəti

* Xüsusi mühəndis dəstəyi

* Ciddi keyfiyyətə nəzarət

* Qlobal təchizat qabiliyyəti

Qabaqcıl material təcrübəsini fərdiləşdirilmiş istehsal həlləri ilə birləşdirərək, Semicorex dünya üzrə müştərilərə gələcək nəsil yarımkeçirici texnologiyaları üçün sabit və səmərəli epitaksial böyümə proseslərinə nail olmaqda dəstək verir.