CVD TaC örtük örtüyü

Semicorex CVD TaC örtük örtüyü təsir edici sərtliyə malikdir, adətən Vickers şkalası üzrə 2500-3000 HV-ə çatır. Bu müstəsna sərtlik, aşındırıcı aşınmaya və mexaniki deformasiyaya qarşı sıx, keçilməz bir maneə meydana gətirərək, tantal və karbon atomları arasında inanılmaz dərəcədə güclü kovalent bağlardan qaynaqlanır. Praktik mənada bu, daha uzun müddət iti qalan, CVD TaC Örtük Qapağının ölçü dəqiqliyini qoruyan və ömrü boyu ardıcıl performans göstərən alətlər və komponentlərə çevrilir.

Qrafit, özünəməxsus xassələri birləşməsi ilə geniş tətbiqlər üçün böyük potensiala malikdir. Bununla belə, onun xas zəifliyi tez-tez istifadəsini məhdudlaşdırır. CVD TaC örtükləri oyunu dəyişdirərək, qrafit substratları ilə inanılmaz dərəcədə güclü bir əlaqə yaradaraq, hər iki dünyanın ən yaxşısını birləşdirən sinergetik material yaradır: qrafitin yüksək istilik və elektrik keçiriciliyi, müstəsna sərtlik, aşınma müqaviməti və CVD-nin kimyəvi təsirsizliyi. TaC örtük örtüyü.

Epitaksi reaktorları daxilindəki sürətli temperatur dalğalanmaları materiallara zərər verə bilər, çatlara, əyilmələrə və fəlakətli uğursuzluğa səbəb ola bilər. Bununla belə, CVD TaC örtük örtüyü, struktur bütövlüyünə xələl gətirmədən sürətli isitmə və soyutma dövrlərinə tab gətirə bilən əla termal zərbə müqavimətinə malikdir. Bu möhkəmlik CVD TaC Kaplama Qapağının əhəmiyyətli daxili gərginliklər yaratmadan sürətli genişlənmə və büzülməyə imkan verən unikal mikro strukturundan irəli gəlir.

Aşındırıcı turşulardan tutmuş aqressiv həlledicilərə qədər kimyəvi döyüş meydanı bağışlanmaz ola bilər. Bununla belə, CVD TaC Örtük örtüyü möhkəm dayanır və geniş çeşiddə kimyəvi maddələrə və aşındırıcı maddələrə əla müqavimət göstərir. Bu kimyəvi təsirsizlik onu kimyəvi emal, neft və qaz kəşfiyyatı və komponentlərin müntəzəm olaraq sərt kimyəvi mühitlərə məruz qaldığı digər sənaye sahələrində tətbiqlər üçün ideal seçim edir.

Tantal Karbid (TaC)  Mikroskopik Kesitin Üzərində Örtük

Epitaxy Avadanlıqlarında Digər Əsas Tətbiqlər:

Qəbuledicilər və vafli daşıyıcıları:Bu komponentlər epitaksial böyümə zamanı substratı saxlayır və qızdırır. Qəbuledicilər və vafli daşıyıcılarda CVD TaC örtükləri vahid istilik paylanmasını təmin edir, substratın çirklənməsinin qarşısını alır və yüksək temperatur və reaktiv qazların yaratdığı əyilmə və deqradasiyaya qarşı müqaviməti artırır.

Qaz enjektorları və nozzilər:Bu komponentlər substrat səthinə reaktiv qazların dəqiq axınlarını çatdırmaqdan məsuldur. CVD TaC örtükləri korroziyaya və eroziyaya qarşı müqavimətini artırır, ardıcıl qaz tədarükünü təmin edir və kristal böyüməsini poza biləcək hissəciklərin çirklənməsinin qarşısını alır.

Otaq astarları və istilik qoruyucuları:Epitaksi reaktorlarının daxili divarları intensiv istiliyə, reaktiv qazlara və potensial çökmə yığılmasına məruz qalır. CVD TaC örtükləri bu səthləri qoruyur, onların xidmət müddətini uzadır, hissəciklərin əmələ gəlməsini minimuma endirir və təmizləmə prosedurlarını sadələşdirir.