CVD örtük gofret sahibi

Semikorex CVD örtükləri, epitaxy proseslərindən istifadə edərək yarımkeçirici materialların dəqiq böyüməsi zamanı boşaltma və saxlamaq üçün hazırlanmış yüksək performanslı bir hissədir. Tələb olunan şərtlərdə görkəmli davamlılığına və etibarlılığına töhfə verən Tantal Carbide (TAC) ilə örtülmüşdür.

Əsas xüsusiyyətlər:

Tantalum karbid örtüyüTantalum karbidi (TAC) ilə vafli sahibi örtük sərtliyi, aşınma müqaviməti və istilik sabitliyi ilə əlaqədardır. Bu örtük məhsulun sərt kimyəvi mühitlərə qarşı, eləcə də yüksək temperaturlara müqavimət göstərməsi və yarımkeçirici istehsaldan tələb olunan şeyləri nəzərə alaraq tətbiqetmənin imkanlarını əhəmiyyətli dərəcədə əhatə edir.

SuperCritical örtük texnologiyası: örtük TAC-ın vahid və sıx təbəqəsinə zəmanət verən supercritial maye çöküntü metodu istifadə edərək tətbiq olunur. Qabaqcıl örtük texnologiyası, yüksək keyfiyyətli, uzunömürlü bir örtüklə təmin etmək, yüksək keyfiyyətli, uzunömürlü bir örtüklə təmin etmək və qüsurlu azalma təmin edir.

Örtük qalınlığı: TAC örtüyü, davamlılıq və dəqiqlik bir tarazlığı təmin edən 120 mikrona qədər qalınlığına çata bilər. Bu qalınlıq, vafli sahibinin struktur bütövlüyünü pozmadan yüksək temperatur, təzyiqlərə və reaktiv mühitlərə tab gətirə biləcəyini təmin edir.

Mükəmməl istilik sabitliyi: Tantalum karbid örtüyü, vafli sahibinin yarımkeçirici epitaxy proseslərinə xas olan yüksək temperatur şəraitində etibarlı şəkildə ifa etməyə imkan verən görkəmli istilik sabitliyini təklif edir. Bu xüsusiyyət ardıcıl nəticələrin qorunması və yarımkeçirici materialın keyfiyyətini təmin etmək üçün çox vacibdir.

Korroziya və aşınma müqaviməti: TAC örtüyü korroziyaya və aşınmaya əla müqavimət göstərir, gofret sahibi, seminkkügər proseslərdə ümumiyyətlə reaktiv qazlara və kimyəvi maddələrə məruz qalmağı təmin edə bilər. Bu davamlılıq məhsulun həyatını genişləndirir və əməliyyat səmərəliliyinin artırılması, tez-tez dəyişdirmə ehtiyacını azaldır.

Proqramlar:

CVD örtüklü vafli sahibi, dəqiq nəzarət və maddi bütövlüyünün vacib olduğu yarımkeçirici epitaxy prosesləri üçün xüsusi olaraq hazırlanmışdır. Bu, molekulyar şüa epitaxiyası (MBE), kimyəvi buxarlanma çökməsi (CVD) və metal üzvi kimyəvi buxarlanma (mocvd), vafli sahibinin həddindən artıq temperatur və reaktiv mühitlərə tab gətirməməsi kimi texnikalarda istifadə olunur.

Yarımkeçirici epitaxy-də, bir substratda yüksək keyfiyyətli nazik filmlərin artması üçün dəqiqlik vacibdir. CVD örtüklü vafli sahibi, yüksək keyfiyyətli yarımkeçirici materialların ardıcıl istehsalına töhfə verən və optimal şəraitdə etibarlı şəkildə dəstəkləndiyini və saxlanılmasını təmin edir.

Semikorex CVD örtüklü vafli sahibi, yarımkeçirici epitaxy-nin yüksək tələblərinə cavab vermək üçün qabaqcıl materiallar və qabaqcıl örtük texnologiyalarından istifadə edərək mühərrikləşdirilmişdir. Qalın, vahid TAC örtüyü üçün super critcritical maye çöküntüsünün istifadəsi müqayisə olunmayan davamlılığı, dəqiqliyi və uzunömürlülüyünü təmin edir. Üstün istilik və kimyəvi müqavimət göstərməsi ilə, vafli sahibimiz, ən çətin performans, ən çətin işlərdə, yarımkeçirici istehsal proseslərinin səmərəliliyini yaxşılaşdırmağa kömək etmək üçün hazırlanmışdır.