Silicon Carbide Wafer Epitaxy Technology

Silikon karbidümumiyyətlə PVT metodundan istifadə edir, temperaturu 2000 dərəcədən çox olan, uzun emal dövrü və aşağı məhsuldarlığı ilə, Silikon Karbid substratlarının qiyməti çox yüksəkdir. Silikon Karbidin epitaksial prosesi əsasən Silikon ilə eynidir, temperatur dizaynı və avadanlığın struktur dizaynı istisna olmaqla. Cihazın hazırlanması baxımından, materialın özəlliyinə görə, cihaz prosesi Silikondan fərqlidir, çünki yüksək temperaturda ion implantasiyası, yüksək temperaturda oksidləşmə və yüksək temperaturda tavlama prosesləri daxil olmaqla, yüksək temperatur proseslərini istifadə edir.

Xüsusiyyətlərini maksimuma çatdırmaq istəyirsinizsəSilikon karbidözü üçün ən ideal həll Silisium Karbid monokristal substratında epitaksial təbəqənin böyüməsidir. Silikon Karbid epitaksial vafli, Silikon Karbid substratında müəyyən tələblərə malik bir kristal nazik filmin (epitaxial təbəqə) və substratla eyni kristalın yetişdirildiyi Silikon Karbid vaflisinə aiddir.

Əsas avadanlıqlar üçün bazarda dörd böyük şirkət varSilisium karbid epitaksial materiallar:

[1]AixronAlmaniyada: nisbətən böyük istehsal gücü ilə xarakterizə olunur;

[2]LPEçox yüksək artım tempinə malik tək çipli mikrokompüter olan İtaliyada;

[3]TELvəNuflareavadanlıqları çox baha olan Yaponiyada, ikincisi, istehsalın artmasına müəyyən təsir göstərən ikili boşluq. Onların arasında Nuflare son illərdə satışa çıxarılan çox fərqli bir cihazdır. O, yüksək sürətlə, dəqiqədə 1000 dövrəyə qədər fırlana bilir ki, bu da epitaksiyanın vahidliyi üçün çox faydalıdır. Eyni zamanda, onun hava axınının istiqaməti şaquli olaraq aşağıya doğru olan digər avadanlıqlardan fərqlidir, buna görə də bəzi hissəciklərin yaranmasının qarşısını ala və vafli üzərinə damlama ehtimalını azalda bilər.

Terminal tətbiqi təbəqəsi nöqteyi-nəzərindən, Silikon Karbid materialları yüksək sürətli dəmir yolu, avtomobil elektronikası, ağıllı şəbəkə, fotovoltaik çevirici, sənaye elektromexaniki, məlumat mərkəzi, ağ əşyalar, istehlakçı elektronikası, 5G rabitəsi, sonrakı tətbiqlərdə geniş tətbiqlərə malikdir. nəsil ekranı və digər sahələr və bazar potensialı böyükdür.

Semicorex yüksək keyfiyyət təklif edirCVD SiC örtük hissələriSiC epitaksial böyüməsi üçün. Hər hansı bir sualınız varsa və ya əlavə məlumatlara ehtiyacınız varsa, bizimlə əlaqə saxlamaqdan çəkinməyin.

Əlaqə telefonu +86-13567891907

E-poçt: sales@semicorex.com