Yarımkeçirici istehsalda böyük keramika komponentləri

Yarımkeçirici avadanlıqlar otaqlardan və otaqlardan ibarətdir və əksər keramika offerlərdə offerlərə daha yaxından istifadə olunur. Keramika hissələri, əsas avadanlıqların boşluqlarında geniş istifadə olunan mühüm komponentlər, alüminiina keramika, alüminium nitrid keramika və silikon karbid keramika kimi qabaqcıl keramika materiallarından istifadə edərək dəqiq emal vasitəsilə istehsal olunan yarımkeçirici avadanlıq komponentləridir. İnkişaf etmiş keramika materialları, güc, dəqiqlik, elektrik xüsusiyyətləri və korroziya müqavimətində əla performansı, vakuum və yüksək temperatur kimi xüsusi mühitlərdə yarımkeçirici istehsalın kompleks performans tələblərinə cavab verə bilər. Yarımkeçirici avadanlıqların qabaqcıl keramika material komponentləri əsasən otaqlarda istifadə olunur, bəziləri isə gofret ilə birbaşa təmasdadır. Onlar inteqrasiya olunmuş dövrə istehsalında əsas dəqiq komponentlərdir və beş kateqoriyaya bölünə bilər: tenuar silindrlər, hava axını təlimatları, yük daşıyan və sabit növlər, tutma qabları və modullar. Bu yazı əsasən birinci kateqoriya haqqında danışır: Annular silindrlər.

Üzüklər və silindrlər

1. Moiré üzükləri: əsasən nazik film çökmə cihazlarında istifadə olunur. Proses Palatasında yerləşən, qaz rəhbərliyi, izolyasiya və korroziya müqavimətini artırmaq, gofretlə birbaşa təmasda olurlar.

2. Mühafizə Üzükləri: Əsasən nazik film çöküntü avadanlıqlarında və Etcher-də istifadə olunur. Proses Palatasında yerləşən, elektrostatik chuck və keramika qızdırıcısı kimi əsas modul komponentlərini qoruyurlar.

3. Edge üzüklər: əsasən nazik film çöküntü avadanlıqlarında və Etcher-də istifadə olunur. Proses Palatasında yerləşən, plazmanı qaçmaqdan sabitləşdirdilər və qarşısını alırlar.

4. Fokuslu üzüklər: Əsasən nazik film çöküntü avadanlıqlarında, etcher və ion implantasiya avadanlıqlarında istifadə olunur. Proses Palatasında yerləşən, onlar plazmanı kamerada fokuslanaraq gofretdən 20 mm-dən azdır.

5. Qoruyucu örtüklər: əsasən nazik film çökmə avadanlığı və etcher-də istifadə olunur. Proses Palatasında yerləşən, proses qalıqlarını möhürləyirlər və udirlər.

6. Torpaq üzükləri: əsasən nazik film çökmə avadanlığı və eTTECER-də istifadə olunur. Palatanın xaricində yerləşən komponentləri etibarlı və dəstəkləyirlər.

7. Liner: İlk növbədə, proses otağında olan etchers-də istifadə olunur, qaz rəhbərliyini artırır və daha çox vahid film meydana gəlməsini təmin edir.

8. İzolyasiya silindr: İlk növbədə nazik film çöküntü avadanlıqlarında, etchers və ion implanterlərində istifadə olunur, bu proses otağında yerləşir və avadanlığın temperatur nəzarət performansını yaxşılaşdırır.

9. Termocüt qoruma borusu: İlk növbədə müxtəlif yarımkeçirici ön qurğularda istifadə olunur, otaq xaricində yerləşir və nisbətən sabit bir temperatur və kimyəvi mühitdə termokuplları qoruyur.

Semikorex yüksək keyfiyyətli təklif edirSeramik məhsullaryarımkeçiricidə. Hər hansı bir sualınız varsa və ya əlavə məlumatlara ehtiyacınız varsa, zəhmət olmasa bizimlə əlaqə qurmaqdan çəkinməyin.

Əlaqə Telefon # + 86-13567891907

Email: sales@semmorex.com