Yarımkeçirici duş başlıqları

BuQaz paylayıcı boşqab, tez-tez "duş başlığı" adlandırılan kimi adlandırılan şərti duş başlığına bənzəyə bilər, lakin onun qiyməti yüzlərlə minlərlə, tipik vanna otağı duşundan xeyli yüksəkdir.

Qaz paylama plakasının səthi, incə toxunmuş sinir şəbəkəsinə bənzəyən yüzlərlə və ya hətta minlərlə kiçik, dəqiq tənzimlənmiş çuxurlara malikdir. Bu dizayn, qaz axınının və enjeksiyon bucaqlarına dəqiq nəzarət etməyə imkan verir, vaffer emalı sahəsinin hər bir hissəsinin emal qazında bərabər "yuyulub". Bu, yalnız istehsal səmərəliliyini artırmır, həm də məhsulun keyfiyyətini artırır.

Qaz paylama nömrəsi təmizlik, etching və çökmə kimi əsas proseslərə ayrılmazdır. Bu, yarımkeçirici proseslərin və son məhsulların keyfiyyətinin düzgünlüyünə birbaşa təsir edir, onu müxtəlif qaz paylayıcı tətbiqetmələrdə kritik bir komponent halına gətirir.

Gofret reaksiya prosesi zamanı, səthiduş başlığısıx bir şəkildə mikroporlar (diyafram 0,2-6 mm) ilə örtülmüşdür. Düzgün dizayn edilmiş kanal quruluşu və qaz yolu ilə, xüsusi proses qazı, vahid qaz boşqabındakı minlərlə kiçik dəlikdən keçməli və daha sonra vafli səthinə depozit qoyulması lazımdır. Daferin müxtəlif sahələrində film təbəqəsi yüksək vahidliyi və ardıcıllığı təmin etməlidir. Buna görə təmizlik və korroziya müqavimətinə görə son dərəcə yüksək tələblərə əlavə olaraq, qaz paylama nömrəsi, qaz paylama plakasının və kiçik çuxurların daxili divarındakı kiçik deliklərin diyonunun ardıcıllığına dair ciddi tələblərə malikdir. Dontrure ölçülü tolerantlıq və ardıcıllıqla standart sapma çox böyükdürsə və ya hər hansı bir daxili divarda buruqlar varsa, depozit edilmiş film qatının qalınlığı fərqli olacaq, bu da avadanlıqların prosesinin məhsuldarlığına birbaşa təsir edəcəkdir.

Qaz paylama plakasının materialı bəzən kövrək materialdır (məsələn, tək qüvvənin hərəkəti, kvars şüşəsi, kvars), xarici qüvvənin hərəkəti ilə ara vermək asandır. Mikroporanın diametri 50 dəfə və kəsmə vəziyyəti birbaşa müşahidə edilə bilməz. Bundan əlavə, kəsmə istiliyi ötürmək asan deyil və çip çıxarılması çətindir və çip tıxanması səbəbindən qazma biti asanlıqla pozulur. Buna görə onun emalı və hazırlığı çox çətindir.

Bundan əlavə, plazma köməkçi proseslərdə (məsələn, pecvd və quru tire kimi), duş rəhbəri, elektrodun bir hissəsi olaraq, plasmanın vahid paylanmasını təşviq etmək və ya depozitin vahidliyini yaxşılaşdırmaq üçün bir RF enerji təchizatı vasitəsilə vahid elektrik sahəsi yaratmaq lazımdır.

Yarımkeçirici istehsal prosesində istifadə olunan qazlar yüksək temperatur, yüksək təzyiq və ya aşındırıcı ola bilər, duş başlığı ümumiyyətlə korroziyaya davamlı materiallardan hazırlanmışdır. Əsl istehsalda, fərqli istifadə ssenariləri və həqiqi tələb olunan dəqiqliklər səbəbindən qaz paylama nömrəsi, maddi tərkibinə görə aşağıdakı iki kateqoriyaya bölünə bilər:

(1) Metal qaz paylayıcı boşqab

Metal qaz paylama plitələrinin materiallarına alüminium ərintisi, paslanmayan polad və nikel metal, aralarında ən çox istifadə olunan metal qaz paylayıcı boşqab materialı alüminium ərintidir, çünki bu, yaxşı istilik keçiriciliyi və güclü korroziyaya davamlıdır. Geniş mövcuddur və emal etmək asandır.

(2) qeyri-metal qaz paylayıcı boşqab

Metal qaz paylayıcı plitələrin materiallarına vahid kristal silikon, kvars şüşə və keramika materialları daxildir. Onların arasında, ümumiyyətlə istifadə olunan keramika materialları CVD-sic, alumina keramika, silikon nitridi keramika və s.

Semikorex yüksək keyfiyyətli təklif edirCvd sic duş başlıqlarıyarımkeçirici sənayesində. Hər hansı bir sualınız varsa və ya əlavə məlumatlara ehtiyacınız varsa, zəhmət olmasa bizimlə əlaqə qurmaqdan çəkinməyin.

Əlaqə Telefon # + 86-13567891907

Email: sales@semmorex.com