Ev > Məhsullar > CVD SIC > 2L10-506419-21 üçün CVD SiC Fokus Üzüyü
2L10-506419-21 üçün CVD SiC Fokus Üzüyü

2L10-506419-21 üçün CVD SiC Fokus Üzüyü

Yüksək performanslı CVD SiC materiallarından hazırlanmış, 2L10-506419-21 üçün Semicorex CVD SiC fokus halqası, dəqiq yarımkeçirici aşındırma proseslərində istifadə edilən TEL VIGUS RK4 avadanlığı üçün xüsusi olaraq hazırlanmış mühüm halqa hissəsidir. Semicorex seçmək o deməkdir ki, siz dəqiq və vahid aşındırma nəticələrinə nail olmaq üçün ideal CVD SiC həllərini əldə edəcəksiniz.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

Plazma aşındırma prosesi zamanı reaksiya kamerasında qeyri-bərabər plazma paylanması vafli kənarında ciddi qüsurlara səbəb ola bilər ki, bu da yarımkeçirici qurğunun məhsuldarlığını aşağı salır. Semicorex CVD SiCfokus halqası2L10-506419-21 üçün bu ağrı nöqtəsini həll etmək üçün ideal komponentdir. O, adətən elektrostatik çuxura quraşdırılır və vafli kənarına yerləşdirilir. 2L10-506419-21 üçün Semicorex CVD SiC fokus halqası plazmanı vafli səthinə fokuslamağa və reaksiya kamerası daxilində elektrik sahəsinin paylanmasını optimallaşdırmağa qadirdir. Bu yolla, vafli kənarın həddindən artıq aşındırılması fenomeninin qarşısını effektiv şəkildə ala bilər və bununla da dəqiq və vahid aşındırma nəticələrini təmin edə bilər.

CVD SiC focus ring for 2L10-506419-21


2L10-506419-21 üçün Semicorex CVD SiC fokus halqasının funksiyaları


1.O, aşındırma vahidliyini təkmilləşdirə və vafli mərkəzi ilə kənar arasında ardıcıl aşındırma sürətini saxlaya bilər, beləliklə, son yarımkeçirici çiplərin məhsuldarlığını artırır.


2. Qeyri-bərabər plazma paylanması nəticəsində yaranan proses sapmasını və hissəciklərin çirklənməsini minimuma endirmək üçün sabit aşındırma şəraiti yaratmağa kömək edə bilər.


3. Plazmanın səbəb olduğu həddindən artıq aşındırma və kənar zədələnməsinin qarşısını almaq üçün vafli kənarını qoruya bilər.


Əla material xüsusiyyətləri

SemicorexCVD SiC2L10-506419-21 üçün fokus halqası dəqiq şəkildə bərk CVD SiC materiallarından hazırlanmışdır. CVD prosesi silisium karbidin struktur və funksional performansını əhəmiyyətli dərəcədə artıra bilər və 2L10-506419-21 üçün Semicorex CVD SiC fokus halqasını mürəkkəb aşındırma əməliyyat mühitlərini yerinə yetirmək üçün aşağıdakı əla xüsusiyyətlərə malikdir.

1.Ultra-yüksək təmizlik və onun çirklilik tərkibi 5 ppm-dən azdır.


2. Sıx daxili quruluşu sayəsində yüksək mexaniki dayanıqlıq.


3. Üstün istilik idarəetmə qabiliyyəti, təxminən 2000°C temperaturda materialda ərimə və ya yumşalma baş vermir.


4.Müstəsna korroziya müqaviməti, HF, HCl və NH₃ daxil olmaqla, plazmanın aşındırılmasına və eroziyaya tab gətirə bilər.


Yüksək dəqiqlikli keyfiyyətə nəzarət

Semicorex həmişə komponent dəqiqliyini və keyfiyyətini əsas prioritet kimi qoyur və ciddi şəkildə yarımkeçirici sənayesinin peşəkar dəqiqlik standartlarına uyğun olaraq CVD SiC fokus halqalarını istehsal edir ki, bu da 2L10-506419-21 üçün Semicorex CVD SiC fokus halqasının TEL4 VIGUS avadanlığı ilə mükəmməl uyğunluğu və qüsursuz yığılmasını təmin edir.


Qaynar Teqlər: 2L10-506419-21 üçün CVD SiC Focus Ring, Çin, İstehsalçılar, Təchizatçılar, Zavod, Xüsusi, Toplu, Qabaqcıl, Davamlı
Əlaqədar Kateqoriya
Sorğu göndərin
Sorğunuzu aşağıdakı formada verməkdən çekinmeyin. 24 saat ərzində sizə cavab verəcəyik.
X
Biz sizə daha yaxşı baxış təcrübəsi təklif etmək, sayt trafikini təhlil etmək və məzmunu fərdiləşdirmək üçün kukilərdən istifadə edirik. Bu saytdan istifadə etməklə siz kukilərdən istifadəmizlə razılaşırsınız. Məxfilik Siyasəti
Rədd edin Qəbul edin